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簡要描述：平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費幾天進(jìn)行設(shè)置并在實際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。
產(chǎn)品品牌：其他品牌廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-11-03訪 問 量：1330相關(guān)文章
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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）
平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費幾天進(jìn)行設(shè)置并在實際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。
75l/mm @10.6μm
100l/mm @10.6μm
150l/mm @10.6μm
300l/mm @300nm
300l/mm @500nm
300l/mm @1000nm
300l/mm @3.5μm
450l/mm @3.1μm
600l/mm @250nm
600l/mm @300nm
600l/mm @400nm
600l/mm @500nm
600l/mm @750nm
600l/mm @1000nm
600l/mm @1250nm
600l/mm @1600nm
1200l/mm @250nm
1200l/mm @300nm
1200l/mm @400nm
1200l/mm @500nm
1200l/mm @750nm
1200l/mm @1000nm
1800l/mm @500nm
特征
材料： | 浮法玻璃 |
表面光潔度： | 60-400 |
尺寸誤cha： | ±0.5 mm |
厚度公cha: | ±0.5mm |
效率: | 60%~80% @閃耀波長 |
有效孔徑: | 90% |
損傷閾值: | 350mJ/cm2@200ns脈沖激光 40W/cm2（CW）連續(xù)激光 |
產(chǎn)品編號 | 產(chǎn)品名稱 | 尺寸 | 刻線數(shù) | 閃耀波長 | 閃耀角 |
378521 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 300nm | 2°34' |
378522 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 500nm | 4°18 |
378523 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 300Lines/mm | 1000nm | 8°36' |
378531 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 300nm | 5°9' |
378532 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 400nm | 6°53' |
378543 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 500nm | 8°37' |
378544 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 750nm | 13°0' |
378545 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 1000nm | 17°27' |
378546 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 1250nm | 22°1' |
378547 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 1600nm | 28°41' |
378554 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 250nm | 8°37 |
378555 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 300nm | 10°22' |
378556 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 400nm | 13°53' |
378565 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 500nm | 17°27' |
378566 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 750nm | 26°44' |
378567 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 1000nm | 36°52' |
378568 | 刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1800Lines/mm | 500nm | 26°44' |
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費幾天進(jìn)行設(shè)置并在實際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費幾天進(jìn)行設(shè)置并在實際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費幾天進(jìn)行設(shè)置并在實際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。
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