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詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 高能偏振立方體分束器
高能量偏振分束器通過光學接觸以用于大功率應用。它們具有準確的表面質量和高消光比。
Eksma 高能偏振立方體分束器
產品介紹
Ø光學接觸，適用于大功率應用
Ø典型的損壞閾值：> 15 J / cm2、10 ns，10 Hz在1064 nm下
Ø尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米
Ø精密的表面質量
Ø高消光比
高能偏振立方分束鏡由UV FS制成，經過優化，可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。
立方體分束器是光學接觸的，具有高達15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體，未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。
產品型號
未安裝的立方偏振分束器
型號 | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127 | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121 | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122 | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123 | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121 | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123 | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
固定式立方偏振分光鏡
型號 | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127-M2Ps | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121-M2Ps | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122-M2Ps | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123-M2Ps | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121-M2Ps | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123-M2Ps | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
材料 | UV FS |
尺寸 | 12.7 x 12.7 x 12.7 mm |
尺寸公差 | ±0.2 mm |
消光比 | >1:500 |
表面質量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
通光孔徑 | >85% of size |
光束偏差 | <3 arcmin |
反射S偏振 | >99.5% |
透射p偏振 | >97% for laser line |
激光損傷閾值 | >15 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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